精抛后磨面明亮如镜,在显微镜明视场前提下看不到划痕,自动抛光机但在相衬照明前提下则仍可见到磨痕。近年来,海内外在抛光机的机能上作了大量的研究工作,研究出不少新机型、新一代的抛光设备,正由原来的手动操纵发展。
为了达到粗抛的目的,要求转盘转速较低,好不要超过600r/min;抛光时间应当比去掉划痕所需的时间长些,由于还要去掉变形层。抛光机是一种电动工具,抛光机由底座、抛盘、抛光织物、抛光罩及盖等基本元件组成。同时还应使试样自转并沿转盘半径方向往返移动,以避免抛光织物局部磨损太快在抛光过程中要不断添加微粉悬浮液。
自动抛光机使抛光织物保持一定湿度。 解决这个矛盾的好的办法就是把抛光分为两个阶段进行。抛光机操纵的枢纽是要想法得到大的抛光速率,以便尽快除去磨光时产生的损伤层。抛光机抛光时,试样磨面与抛光盘应相对对平行并平均地轻压在抛光盘上,留意防止试样飞出和因压力太大而产生新磨自动抛光机痕。抛光机抛光质量的好坏严峻影响试样的组织结构,已逐步起有关厂商的正视。粗抛后磨面光滑,但黯淡无光,在显微镜下观察有平均细致的磨痕,有待精抛消除。同时也要使抛光损伤层不会影响终观察到的组织,即不会造成假组织。湿度太大会减弱抛光的磨痕作用,使试样中硬相呈现浮凸和钢中非金属夹杂物及铸铁中石墨相产生“曳尾”现象;湿度太小时,因为摩擦生热会使试样升温,润滑作用减小,磨面失去光泽,甚至泛起黑斑,轻合金则会抛伤表面。粗抛目的是去除磨光损伤层,这一阶段应具有大的抛光速率,粗抛形成的表层损伤是次要的考虑,不外也应当尽可能小;其次是精抛(或称终抛),其目的是去除粗抛产生的表层损伤,使抛光损伤减到小。 精抛时转盘速度可适当进步,抛光时间以抛掉粗抛的损伤层为宜。前者要求使用较粗的磨料,以保证有较大的抛光速率来去除磨光的损伤层,但抛光损伤层也较深;后者要求使用细的材料,使抛光损伤层较浅,但抛光速率低自动抛光机。
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